Dissilicida de titânio - Titanium disilicide
| Nomes | |
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Nome IUPAC
Dissilicida de titânio
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| Outros nomes
Siliceto de titânio
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| Identificadores | |
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Modelo 3D ( JSmol )
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| ECHA InfoCard |
100.031.719 
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| Número EC | |
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PubChem CID
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Painel CompTox ( EPA )
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| Propriedades | |
| TiSi 2 | |
| Massa molar | 104,038 g / mol |
| Aparência | cristais ortorrômbicos pretos |
| Densidade | 4,02 g / cm 3 |
| Ponto de fusão | 1.470 ° C (2.680 ° F; 1.740 K) |
| insolúvel | |
| Solubilidade | solúvel em HF |
| Perigos | |
| Pictogramas GHS |
 
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| Palavra-sinal GHS | Aviso |
| H228 , H315 , H319 , H335 | |
| P210 , P240 , P241 , P261 , P264 , P271 , P280 , P302 + 352 , P304 + 340 , P305 + 351 + 338 , P312 , P321 , P332 + 313 , P337 + 313 , P362 , P370 + 378 , P403 + 233 , P405 , P501 | |
| Compostos relacionados | |
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Outros cátions
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Dissilicida de zircônio Dissilicida de háfnio |
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Exceto onde indicado de outra forma, os dados são fornecidos para materiais em seu estado padrão (a 25 ° C [77 ° F], 100 kPa). |
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 verificar (o que é ?)
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| Referências da Infobox | |
O dissilicida de titânio ( Ti Si 2 ) é um composto químico inorgânico de titânio e silício .
Preparação
O dissilicida de titânio pode ser obtido a partir da reação entre titânio ou hidreto de titânio com silício.
- Ti + 2 Si → TiSi 2
Também é possível prepará-lo aluminotermicamente pela ignição de pó de alumínio , enxofre , dióxido de silício e dióxido de titânio ou hexafluorotitanato de potássio, K 2 TiF 6 , por eletrólise de um fundido de hexafluorotitanato de potássio e dióxido de titânio, ou por reação de titânio com tetracloreto de silício .
Outro método é a reação do tetracloreto de titânio com silano , diclorossilano ou silício.
- TiCl 4 + 2 SiH 4 → TiSi 2 + 4 HCl + 2 H 2
- TiCl 4 + 2 SiH 2 Cl 2 + 2 H 2 → TiSi 2 + 8 HCl
- TiCl 4 + 3 Si → TiSi 2 + SiCl 4
Usos
O siliceto de titânio é usado na indústria de semicondutores. É normalmente cultivado por meio de tecnologia de salicida sobre linhas de silício e polissilício para reduzir a resistência da folha de conexões de transistores locais. Na indústria microeletrônica, é normalmente usado na fase C54.
Referências
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